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高纯水系统
当今工艺技术日新月异地发展对水处理设备的设计和制造也提出了更高的要求。简单到水软化器、过滤器或化学加药装置，复杂到高纯水系统（UPW），用于半导体、电子和制药行业。帕克德专业的工程师能设计和制造符合处理水纯度的设备。
UPW系统可去除悬浮颗粒、溶解颗粒（盐）、有机物（TOC）、细菌、苞子来减少污染物。
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| 高纯水，通常用于半导体行业： |
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电阻 |
>18.2
megohm/cm |
TOC |
<5.0 ppb
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总细菌 |
<2/100
ml |
溶解硅 (SiO2
) |
<0.5 ppb
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铝 (Al) |
<0.1 ppb
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氨 (NH 4
) |
<0.05
ppb |
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铬 (Cr) |
<0.05
ppb |
铁 (Fe) |
<0.1 ppb
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锰 (Mn) |
<0.1 ppb
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钾 (K) |
<0.05
ppb |
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钠 (Na) |
<0.05
ppb |
溴 (Br) |
<0.05
ppb |
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氯 (Cl) |
<0.05
ppb |
硝酸盐 (NO 3
) |
<0.05
ppb |
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磷酸盐(PO4
) |
<0.1 ppb
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硫酸盐 (SO 4
) |
<0.1 ppb
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溶解总固体 |
5 ppb |
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| UPW系统使用PACT设备，主要包括： |
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压力沙滤器&多介质过滤器 |
活性炭过滤器 |
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离子交换软化器 |
复床离子交换器 |
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混床离子交换器 |
反渗透 |
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真空脱气器 |
EDI |
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微滤 |
紫外线消毒 |
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臭氧 |
化学计量系统 |
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仪表和控制 |
特殊管路 |
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